電暈放電和介質(zhì)阻擋放電誠峰plasma設備的區(qū)別哪些：
一、誠峰plasma電暈放電
       氣介質(zhì)在不均衡電場中的部分自持放電。它是最常見的的汽體放電方式。在回轉(zhuǎn)半徑小的前沿電極的附近，考慮到部分電場強度超出的汽體的電離場強度，的汽體產(chǎn)生電離和激勵，因而出現(xiàn)電暈放電。當電暈產(chǎn)生時，能夠看見電極的附近的光，并伴有唑唑聲。plasma電暈放電可以是1種比較穩(wěn)定的放電方式，也能夠是不均衡電場間隙穿透流程中的初期發(fā)展環(huán)節(jié)。

二、誠峰plasma介質(zhì)阻擋放電
       plasma介質(zhì)阻擋放電（DBD）是1種含有絕緣介質(zhì)插入放電空間的不平衡的汽體放電，也將之稱為介質(zhì)阻擋電暈放電或無聲放電。介質(zhì)阻擋放電可以在高壓和寬頻率范圍內(nèi)工作，通常工作氣壓為10~10。電源頻率可以從50Hz到1MHz。電極構(gòu)造的設計方式多種多樣。2個放電電極相互間充斥著相應的工作的汽體，用絕緣介質(zhì)覆蓋一個或2個電極，也能夠直接懸掛在放電空間或填充顆粒介質(zhì)，當2個電極相互間施加足夠高的交流電壓時，電極相互間的的汽體會被擊穿并產(chǎn)生放電，即產(chǎn)生介質(zhì)阻擋放電。在實際運用中，管道電極構(gòu)造廣泛運用于各種化學反應器，而平板電極構(gòu)造廣泛運用于工業(yè)聚合物、金屬塑料薄膜和板的改性、分支、界面張力、清洗和親水改性。