CRF誠(chéng)峰電暈等離子處理機(jī)體現(xiàn)在五個(gè)方面：
        誠(chéng)峰電暈等離子處理機(jī)可用于納米表面清潔和試品激活，是一類微型處理機(jī).無(wú)破壞性超清洗設(shè)備。等離子體清洗設(shè)備選用氣體作為清潔介質(zhì)，合理預(yù)防液體清潔介質(zhì)對(duì)被清潔物體造成的再次污染。

      等離子體清洗設(shè)備除了具有超清洗功能外，還可以根據(jù)需要改變某些材料表面的性質(zhì)：等離子作用于材料表面，重組表面分子的化學(xué)鍵，形成新的表面特性。對(duì)于一些特殊用途的材料，超清潔過(guò)程中的光放電不僅增強(qiáng)了這些材料的附著力.兼容性和滲透性，也可消毒滅菌。光學(xué)處理中的誠(chéng)峰電暈等離子處理機(jī).光電.電子.材料.生命科學(xué).高分子科學(xué).生物醫(yī)學(xué).廣泛應(yīng)用于微觀流體學(xué)等領(lǐng)域。
電暈等離子處理機(jī)的主要優(yōu)點(diǎn)是：
1.如果使用等離子體清洗機(jī)清潔物品，清洗后物品將保持干燥狀態(tài)，使物品不需要直接送到下一道工序，非常方便，大大提高了整個(gè)裝配線的工作效率。
2.此外，等離子體清洗設(shè)備允許員工遠(yuǎn)程操作，也可以避免員工的安全問(wèn)題。
3.由于選用高頻等離子，可以深入物體完成相應(yīng)的清洗任務(wù)。與普通清洗機(jī)相比，它仍然有很大的優(yōu)勢(shì)。無(wú)論物體形狀如何，都可以清潔，清潔度也很好。
4.使用它來(lái)清潔材料表面，一般不需要清潔液的輸送和排放，因此在很大程度上保證了清潔環(huán)境的環(huán)境保護(hù)。此外，它還在一定程度上節(jié)省了一定程度的人力物力處理和后處理。這將進(jìn)一步提高整體物品的清潔效率。
5.電暈等離子處理機(jī)是一類全新的高科技技術(shù)，利用等離子達(dá)到常規(guī)清洗方法無(wú)法達(dá)到的效果。它利用這些活性成分的性質(zhì)對(duì)試品進(jìn)行表面處理，以實(shí)現(xiàn)清潔.涂層.改性.光刻膠灰化等目的。