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講述低溫等離子體技術(shù)是如何提(升)材料的絕緣性能

       目前國(guó)(際)上已經(jīng)投運(yùn)的GIL工程往往采用降(低)運(yùn)行電壓提高絕緣裕度的方式保障設(shè)備的可靠性,例如日本日立公司與關(guān)西電力公司等聯(lián)合研制的直流±500kV氣體絕緣金屬封閉開關(guān)設(shè)備(Gas Insulated Switchgear, GIS),在阿南換流站長(zhǎng)期降壓運(yùn)行在±250kV,ABB公司采用在交流550kV、800kV GIS元件基礎(chǔ)上研制的直流GIS,其長(zhǎng)期運(yùn)行電壓為±500kV。通過更高的絕緣裕度來保障直流氣體絕緣設(shè)備的安(全)運(yùn)行,不僅增加了設(shè)備的體積,同時(shí)經(jīng)濟(jì)效益差,不利于直流GIL的大規(guī)模推廣氣體絕緣輸電線路(Gas-Insulated Transmission Line, GIL)是一種采用壓縮氣體(SF6或SF6與N2混合氣體等)絕緣,外殼與導(dǎo)體同軸布置的高電壓、大電流輸電設(shè)備,相較于傳統(tǒng)的架空線路或電力電纜,GIL具有輸電容量大、電磁輻射低、輸電損耗小、節(jié)約占地面積等眾多優(yōu)點(diǎn),因此其應(yīng)用范圍日益擴(kuò)大。

低溫等離子體

       隨著西電東送、“大氣污染防治計(jì)劃”等一系列特高壓重(點(diǎn))工程的開工建設(shè),對(duì)遠(yuǎn)距離的輸電設(shè)備提出了更高的要求,而傳統(tǒng)的架空輸電線路在垂直落差高度大、跨越江河等地理環(huán)境惡劣及地質(zhì)條件復(fù)雜的情況下不僅無法施工建設(shè)且難以長(zhǎng)期安(全)穩(wěn)定運(yùn)行,GIL因受氣象、地質(zhì)條件制約小,安裝布置靈活,在工程建設(shè)中具有重要的意義。在直流GIL中,腔體內(nèi)部的絕緣子與氣體交界面處存在表面電荷積聚的現(xiàn)象,由于在直流電壓下,電場(chǎng)方向保持不變,表面電荷難以消散,大量積聚的電荷會(huì)造成絕緣子附近電場(chǎng)畸變,導(dǎo)致絕緣子出現(xiàn)放電甚致沿面閃絡(luò),嚴(yán)重威脅直流GIL設(shè)備安(全)穩(wěn)定運(yùn)行。
       隨著材料科學(xué)的發(fā)展,越來越多學(xué)者開展對(duì)絕緣材料進(jìn)行表面改性或者納(米)改性的研究,增加絕緣材料的電荷消散速率,提高絕緣材料的耐受電壓。天津大學(xué)的杜伯學(xué)將絕緣材料放置在F2與其他惰性氣體混合的氣氛中,直接氟化絕緣材料,使得絕緣材料表面形成一層氟化屏蔽層,不僅抑制了電荷的注入也提高了電荷消散速率,提(升)了材料的絕緣性能。中科院電工所的邵濤采用低溫等離子體技術(shù),通過介質(zhì)阻擋放電(Dielectric Barrier Discharge, DBD)、射流放電的形式處理絕緣材料表面,結(jié)果發(fā)現(xiàn)改性處理后的絕緣材料,表面電導(dǎo)率有所提(升),電荷消散速率加快,同時(shí)材料表面引入了羰基等極性基團(tuán)使得材料表面陷阱變淺,電荷更容易脫陷。對(duì)絕緣材料的表面改性受到改性設(shè)備等因素的制約,存在對(duì)試樣表面造成損傷的可能,而傳統(tǒng)氣體氟化方式需要多日的時(shí)間處理,目前大多停留在絕緣試樣改性的研究中,實(shí)際GIL中絕緣子形貌特征與絕緣試樣差別較大,工業(yè)大規(guī)模的應(yīng)用仍需進(jìn)一步的研究。
       對(duì)絕緣材料配方體系的改性,可以從源頭處提(升)絕緣子性能,因此大量的學(xué)者通過在絕緣材料中添加無機(jī)填料的方法,進(jìn)一步提高材料電荷消散率,綜合改善聚合物的絕緣性能。AlN作為一種新型無機(jī)填料具有高導(dǎo)熱性、熱膨脹系數(shù)低等眾多優(yōu)點(diǎn),受到國(guó)內(nèi)外學(xué)者的廣泛關(guān)注,研究表明,添加微米AlN后的環(huán)氧樹脂不僅提高了導(dǎo)熱率,同時(shí)力學(xué)性能也有所(提)升。但相比傳統(tǒng)的Al2O3等填料,添加AlN后的環(huán)氧樹脂絕緣性能有所下降,限制了AlN在環(huán)氧樹脂配方填料中的應(yīng)用。

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