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CRF plasma 等離子清洗機(jī)

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PTFE性能極強(qiáng)改變其表面能很難改性,真空等離子設(shè)備具有獨有特性

PTFE不僅可以提高材料表面的粘接能力,還可以通過的真空等離子設(shè)備來實現(xiàn):
1.真空等離子設(shè)備低溫等離子體蝕刻:
在低溫等離子體蝕刻的整個過程中,被蝕刻的物體會變成氣相。使用機(jī)械泵排出多余的產(chǎn)物,并繼續(xù)用新鮮氣體覆蓋表面,蝕刻部分不會被材料覆蓋(例如,鉻被用作半導(dǎo)體材料工業(yè)生產(chǎn)的覆蓋材料)。真空等離子體法也可以用來蝕刻塑料表面,化合物可以被灰化。作為一種準(zhǔn)備處理方法,用于印刷和粘合塑料包裝,如POM。PPS。PTFE等,蝕刻方法是非常必要的,真空等離子設(shè)備可以顯著增加濕潤面積,提高材料表面的粘結(jié)能力。

真空等離子設(shè)備

2.塑料、夾層玻璃和瓷器的表面處理和清潔:
塑膠由于其優(yōu)異的性能和低廉的價格,夾層玻璃和瓷器通常用于日用品。氟塑料具有優(yōu)異的有機(jī)化學(xué)可靠性。良好的介電性極低的摩擦阻力和自潤滑軸承效果,因此在一些特殊行業(yè)具有重要的主要用途。然而,在這些材料的整個釋放過程中,很難避免同一材料或其他材料之間粘附能力較弱的問題。因此,我們討論了這種不能粘附的聚合物材料不能粘附的原因和表面解。
此外,它可以非常均勻地解決所有表面問題,不易引起有害物質(zhì)。中空產(chǎn)品也可以處理,環(huán)保,工作所需的室內(nèi)空間小,成本低。根據(jù)親水性鑒定,簡單的等離子體可以解決實際效果,解決后的試件表面是否完全濕潤。
3.低溫真空等離子設(shè)備涂層:
在整個收集過程中,兩種氣體在涂層過程中進(jìn)入反應(yīng)室,并聚集在等離子體環(huán)境中。這種使用比等離子體表面清潔更嚴(yán)格。涂層易于維護(hù),僅為1微米。一般標(biāo)準(zhǔn)包括類似的標(biāo)準(zhǔn)PTFE材料涂層的水涂層,其目的是避免與其親水性涂層交叉。
4.真空等離子設(shè)備清除和凈化金屬材料表面的油污:
一般來說,金屬材料的表層是有機(jī)化學(xué)層和氫氧化物層,如油脂。植物油脂等。之前的磁控管磁控濺射。噴漆。粘接?;『?。錫焊及PVD。CVD等待涂裝時,應(yīng)使用等離子體清洗機(jī),以獲得清和無還原性表層。
5.PTFE蝕刻:
沒有適當(dāng)?shù)奶幚?,ptfe包裝、包裝、印刷或粘貼是不可能的。眾所周知,使用堿金屬可以提高吸力,但這種方法很難掌握,溶液也是有害的。使用等離子體清洗機(jī)不僅可以維持生態(tài)環(huán)境,而且可以獲得良好的實際效果。
PTFE混合物必須小心處理,以防止過度暴露。真空等離子設(shè)備能使表面利益最大化,從而將塑料粘在一起包裝印刷。


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