CRF等離子活化機(jī)清洗工藝對(duì)PTFE孔薄膜界面有很好的改性效果：
       PTFE微孔膜具有穩(wěn)定的化學(xué)特性，耐高溫、耐腐蝕，優(yōu)良的抗水、疏油性能，對(duì)高溫、高濕、高腐蝕以及特殊氣體中的機(jī)液等均有良好的過(guò)濾性能，可主要應(yīng)用于冶金、化工、煤炭、水泥等行業(yè)的除塵過(guò)濾，是一類耐高溫復(fù)合濾料的薄膜材料。但它極低的表面活性、突出的不粘滯性使它很難與基材復(fù)合，從而限制了它的應(yīng)用。CRF等離子活化機(jī)技術(shù)是干法刻蝕中常見(jiàn)的一種形式，其原理是暴露在電子區(qū)的氣體形成等離子體，產(chǎn)生離子體并釋放出由高能電子組成的氣體，形成等離子體或離子，當(dāng)離子體原子通過(guò)電場(chǎng)加速時(shí)，釋放出的力足以緊貼材料或蝕刻表面，使之與表面驅(qū)動(dòng)力結(jié)合。在一定程度上，等離子清洗實(shí)際上是等離子蝕刻過(guò)程中的一種輕微現(xiàn)象。干燥蝕刻處理設(shè)備包含反應(yīng)室，電源，真空等部分。工件被送到反應(yīng)室，氣體被引入等離子體，并進(jìn)行交換。等離子體的蝕刻過(guò)程本質(zhì)上是一個(gè)活躍的等離子過(guò)程。近來(lái)，反應(yīng)室里出現(xiàn)了一種擱置形式，使用者可以靈活地移動(dòng)它來(lái)配置合適的等離子體蝕刻方式：反應(yīng)性等離子體(RIE)、順流等離子體(downstream)和直接等離子體(directionplasma)。

       CRF等離子活化機(jī)技術(shù)等離子體表面處理的功率并非越大越好，在較低功率下，處理的薄膜剪切強(qiáng)度隨著功率的增加而增加，達(dá)到峰值后強(qiáng)度逐漸降低。感應(yīng)耦合等離子體的蝕刻方法(ICPE)是化學(xué)和物理過(guò)程的綜合結(jié)果。其基本原理是：在低壓下，由ICP射頻電源輸出到環(huán)耦合線圈，通過(guò)耦合光放電，混合腐蝕氣體通過(guò)耦合光放電，在下電極中產(chǎn)生高密度等離子體RF在基板表面的作用下，基板圖形區(qū)域內(nèi)半導(dǎo)體材料的化學(xué)鍵被打斷，與腐蝕性氣體產(chǎn)生揮發(fā)性物質(zhì)，將氣體與基板分離，從真空管中抽離。