等離子體表層處理工藝是1種干法_取代了傳統(tǒng)的濕式工序

1.等離子體表層處理環(huán)境保護工藝:等離子體的作用是氣-固相干反應，不消耗水資源，不需要添加化學試劑
2.等離子體表層處理效率高：可以在更短的時間內(nèi)完成整個過程，提高工作效率，使清洗效率大大提高。整個清洗過程可在幾分鐘內(nèi)完成，其清洗效率高；
3.等離子體表層處理成本低：設備簡單，易于操作和維修，用少量氣體代替了昂貴的清潔劑，同時無廢液費用；不污染環(huán)境。
4.等離子體表層處理操作更精細：能夠深入到微孔和凹坑內(nèi)部，完成清潔任務；
5.等離子體表層處理適用范圍廣：低溫等離子表層處理工藝可以對大多數(shù)固體物質進行處理，為此其使用范圍十分普遍。等離子體清洗可不分處理對象，可處理多種材料，無論是金屬、半導體、氧化物、高分子材料等，均可采用低溫等離子米處理。
6.等離子體表層處理使用等離子清洗可以大大提高清洗效率。整個清洗過程可在幾分鐘內(nèi)完成，其清洗效率高；
7.等離子體表層處理在完成清污的同時，還可以改善材料本身的表面性能。例如改善表面的潤濕性、提升粘接性等，在許多使用中都很重要。
伴隨著高科技產(chǎn)業(yè)發(fā)展。不一樣工序對設備的技術標準愈來愈高，低溫等離子表層處理工藝的出現(xiàn)，不僅改善了設備性能，提高了生產(chǎn)效率，而且還達到了安全環(huán)保的目的。離子表層處理工藝廣泛應用于材料科學、聚合物科學、生物醫(yī)學、材料科學等領域。這一廣泛的應用領域和巨大的發(fā)展空間，促使低溫等離子表層處理在我國得到了快速的發(fā)展。