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CRF plasma 等離子清洗機(jī)

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等離子清洗機(jī)技術(shù)為何在這些行業(yè)如此受歡迎呢?

       等離子技術(shù)是一新興的領(lǐng)域,該領(lǐng)域結(jié)合等離子物理、等離子化學(xué)和氣固相界面的化學(xué)反應(yīng),此為典型的高科技產(chǎn)業(yè),需跨多種領(lǐng)域,包括化工、材料和電機(jī),因此將極(具)挑戰(zhàn)性,也充滿機(jī)會,由于半導(dǎo)體和光電材料在未來得快速發(fā)展中離不開等離子清洗。等離子清洗機(jī)已應(yīng)用于各種電子元件的制造,可以確信,沒有等離子清洗機(jī)及其清洗技術(shù),就沒有今天這么發(fā)達(dá)的電子、資訊和通訊產(chǎn)業(yè)。此外,等離子清洗機(jī)及其清洗技術(shù)也應(yīng)用在光學(xué)工業(yè)、機(jī)械與航天工業(yè)、高分子工業(yè)、污染防治工業(yè)和量測工業(yè)上,而且是產(chǎn)品提(升)的關(guān)鍵技術(shù)、比如說光學(xué)元件的鍍膜、延長模具或加工工具壽命的抗磨耗層,復(fù)合材料的中間層、織布或隱性鏡片的表面處理、微感測器的智造,超微機(jī)械的加工技術(shù)、人工關(guān)節(jié)、骨骼或心臟瓣膜的抗摩耗層等皆需等離子技術(shù)的進(jìn)步,才能開發(fā)完成。

等離子清洗機(jī)

       在化學(xué)反應(yīng)里常用的氣體有氫氣(H2)、氧氣(O2)、四氟化碳(CF4)等,這些氣體在電漿內(nèi)反應(yīng)成高活性的自由基,其方程式為:這些自由基會進(jìn)一步與材料表面作反應(yīng)。其反應(yīng)機(jī)理主要是利用等離子體里的自由基來與材料表面做化學(xué)反應(yīng),在壓力較高時(shí),對自由基的產(chǎn)生較有利,所以若要以化學(xué)反應(yīng)為主時(shí),就必須控制較高的壓力來進(jìn)行反應(yīng)。


       主要是利用等離子體里的離子作純物理的撞擊,把材料表面的原子或附著材料表面的原子打掉,由于離子在壓力較低時(shí)的平均自由基較輕長,有得能量的累積,因而在物理撞擊時(shí),離子的能量越高,越是有的作撞擊,所以若要以物理反應(yīng)為主時(shí),就必須控制較的壓力下來進(jìn)行反應(yīng),這樣清洗效(果)較好。由于半導(dǎo)體和光電材料在未來得快速成長,此方面應(yīng)用需求將越來越大。
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