深圳市誠(chéng)峰智造誠(chéng)峰crf真空等離子清洗機(jī)的清洗工藝和產(chǎn)品特性：
1、被清洗過的工件進(jìn)入真空型并加以固定，啟動(dòng)運(yùn)轉(zhuǎn)裝置，開始放氣，使真空室真空程度達(dá)到十帕左古的標(biāo)準(zhǔn)真空度。通常的放氣時(shí)間只需幾分鐘;
2、將等離子清洗氣體引入真空室，并保持氣室壓力穩(wěn)定。按清潔材料不同，可以分別采用氧、氬、氫、氮、氟等氣體;
3、在真空室中的電極與接地裝置間施加高頻電壓，使氣體被擊穿，并通過輝光放電發(fā)生等離子化，形成等離子體。將處理工件完全包覆在真空室中產(chǎn)生的等離子體，開始清洗操作，一般的清洗環(huán)節(jié)會(huì)持續(xù)數(shù)十秒至數(shù)十分鐘;
4、清洗結(jié)束后，切斷電源，用真空泵吸氣汽化污垢。

誠(chéng)峰crf真空等離子清洗機(jī)產(chǎn)品特性:
1.環(huán)保技術(shù)：等離子體法為氣-固相干式反應(yīng)，不需消耗水資源，不需添加化學(xué)試劑，對(duì)環(huán)境無污染;
2.適用性：處理時(shí)不分被處理的對(duì)象的基材類型，例如金屬、半導(dǎo)體、氧化物和大部分聚合物可以很好地處理；
3.溫度低：接近常溫，尤其適合聚合物材料，比電暈、火焰法保存時(shí)間長(zhǎng)，表面張力高;
4.功能強(qiáng)：只涉及聚合物材料的淺表面(十-1000A)，可以賦予它一種或多種功能，同時(shí)保持材料本身的特性；
5.成本低：設(shè)備簡(jiǎn)單，操作維護(hù)容易，可連續(xù)運(yùn)行，往往用幾瓶氣就能替代幾千公斤的清洗液，所以清洗效果比濕法清洗要小得多;
6.全過程控制工藝：通過PLC設(shè)定所有參數(shù)，數(shù)據(jù)記錄，做好質(zhì)量控制;
7.工件的幾何尺寸無限：大的或小的、簡(jiǎn)單的或復(fù)雜的，都可以處理的部件或紡織品。