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CRF plasma 等離子清洗機(jī)

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芯片與載體若有氧化物用crf等離子表面處理機(jī)有用?

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        離子和自由分子的數(shù)量由清洗過程中的壓力控制,因此過程壓力是一個(gè)非常重要的參數(shù)。工作腔內(nèi)的壓力是受真空泵工作狀態(tài)和工作氣體注入速度影響的動態(tài)過程。工作腔內(nèi)真空度的動態(tài)控制方法是PLC或者工業(yè)控制機(jī)讀取當(dāng)前工作區(qū)域的真空度,根據(jù)各執(zhí)行機(jī)構(gòu)的工作能力和工作特點(diǎn),準(zhǔn)確控制工作氣體的質(zhì)量流量,使工作區(qū)域的真空度始終保持在理想狀態(tài)。
lC封裝類型中方形扁平封裝包裝在薄薄的外觀上是當(dāng)前封裝密度趨勢要求下的兩種封裝類型。在過去的幾年里,球柵陣列被封裝被認(rèn)為是標(biāo)準(zhǔn)封裝類型。特別是塑料球柵陣列封裝,每年提供數(shù)百萬計(jì)。等離子體清洗廣泛應(yīng)用于等離子體清洗以及基于聚合物的其他襯底,有利于粘結(jié)和分層。清洗微波等離子體IC在芯片粘合和引線鍵合之前,通常在以下幾個(gè)環(huán)節(jié)引入封裝:芯片封裝前。如果用等離子體清洗載體正面,可以提高環(huán)氧樹脂的附著力,去除氧化物,有利于焊料回流,改善芯片與載體的連接,減少剝離,提高熱耗散性能。

等離子表面處理機(jī)

       用合金焊料將芯片燒結(jié)到載體上。如果焊料回流和燒結(jié)質(zhì)量受到載體污染或表面陳舊的影響。燒結(jié)前用等離子清洗載體。也有效保證燒結(jié)質(zhì)量。用等離子體清洗焊盤和基材進(jìn)行引線鍵合前,會顯著提高鍵合強(qiáng)度和鍵合線拉力的均勻性。清潔關(guān)鍵點(diǎn)意味著清除薄污染表面。lC塑料密封時(shí),要求塑料密封材料與芯片、載體、金屬鍵腳等不同材料具有良好的附著力。如有污漬或表面活性差,會導(dǎo)致塑料密封表面剝離。若等離子體清洗后再包裝,可有效提高表面活性,提高附著力,提高包裝可靠性。

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