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CRF plasma 等離子清洗機(jī)

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等離子體是怎樣提高金屬表面附著力的?

       等離子體是怎樣提高金屬表面附著力的?等離子體中存在大量的氣體分子、電子和離子,還有大量被激發(fā)的中性原子、原子團(tuán)自由基以及等離子體所發(fā)射的光。離子、電子、受激原子、自由基和它們的射光等離子體清洗過程中,分別與被清潔表面的污染物分子分別發(fā)生活化反應(yīng),使污染物最終被清除。

等離子體


       電漿清洗機(jī)是利用等離子體中的高能粒子和活性粒子,通過轟擊或活化反應(yīng)作用來達(dá)到清除金屬表面污物的目的。電漿清洗過程不需化學(xué)試劑,因此不會造成二次污染,清洗設(shè)備可重復(fù)性強(qiáng),因此設(shè)備運(yùn)行成本較低,且操作靈活簡單,能夠?qū)崿F(xiàn)金屬表面整體或某些局部和復(fù)雜結(jié)構(gòu)的清洗;一些經(jīng)過等離子體清洗后的表面性能還可以得到改善,有利于隨后金屬的加工應(yīng)用。
       電漿清洗機(jī)主要依靠等離子體中的電子、離子、激發(fā)態(tài)原子、自由基等活性離子,使金屬表面有機(jī)污染物的大分子逐步分解,最終產(chǎn)生穩(wěn)定、易揮發(fā)的、簡單的小分子,最終將粘附在表面的污物徹底脫離。金屬表面的附著力和表面潤濕性能在很大程度上改善等離子體清洗后的表面潤濕性,而這些性能的提高對金屬材料的進(jìn)一步表面處理具有重要意義。伴隨著高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展,等離子體清洗技術(shù)的應(yīng)用日益廣泛,目前已廣泛應(yīng)用于電子、半導(dǎo)體、光電等高科技領(lǐng)域。

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