真空等離子清洗設(shè)備可以說在半導(dǎo)體封裝領(lǐng)域有6個方面的應(yīng)用：
       由于等離子體并非液體、固體或氣體，因此等離子體可被描述為“第四狀態(tài)”。電漿以離子和電子的形式存在。從根本上說，它是一個離子化氣體，無論正反，都帶有額外的電子。地球上的自然活動相對較少，而宇宙其他地方的等離子體也非常豐富。雷電，靜電和極光是地球上天然血漿的主要來源。真空等離子清洗設(shè)備是怎樣做好的？對于等離子體，我們先制造等離子體。將氣體或氣體混合物引入密封的低壓真空等離子體室內(nèi)。這種氣體通過電極陣列之間產(chǎn)生的RF(RF)功率被激發(fā)。那些氣體中的激活離子被加速并開始振動。這一震動“擦洗”了室內(nèi)表面，清除了污染物。這樣，激發(fā)的氣體分子和等離子體中的原子就發(fā)出紫外光。它導(dǎo)致了血漿發(fā)光。溫控系統(tǒng)通常用來控制腐蝕速度。60到90度之間的溫度比周圍環(huán)境溫度的等離子腐蝕快4倍。對溫敏元件或使用溫度敏感元件，等離子蝕刻可降至15攝氏度。
       所有的溫度控制系統(tǒng)都是預(yù)先編程并集成到軟件中。將不同的氣體引入空腔，能夠?qū)^程做好修改。常見氣體有O2、N2、Ar、H2和CF4。大部分實驗室都將這五種氣體單獨或聯(lián)合用于真空等離子清洗設(shè)備。