等離子體是氣體分子在真空、放電等特殊場合下產(chǎn)生的獨特現(xiàn)象和物質(zhì)。典型的等離子的組成是，電子、離子、自由基和質(zhì)子。就好象把固體轉(zhuǎn)變成氣體需要能量一樣，產(chǎn)生離子體也需要能量。一定量的離子體是由帶電粒子和中性粒子（包括原子、離子和自由粒子）混合組成。
      離子體能夠?qū)щ?，和電磁力起反?yīng)。等離子清洗/刻蝕機產(chǎn)生等離子體的裝置是在密封容器中設(shè)置兩個電極形成電場，用真空泵實現(xiàn)一定的真空度，隨著氣體愈來愈稀薄，分子間距及分子或離子的自由運動距離也愈來愈長，受電場作用，它們發(fā)生碰撞而形成等離子體，這時會發(fā)出輝光，故稱為輝光放電處理。
       等離子體的產(chǎn)生機理包括電離反應(yīng)、帶電粒子的傳輸以及電磁運動學(xué)等理論。等離子體的產(chǎn)生與氣化過程伴隨著電子、粒子和中性粒子的碰撞反應(yīng)。等離子體中粒子的碰撞會產(chǎn)生活性組分。因為等離子體處理的目的是改性表面或在表面形成一層合成材料，因此在整個處理過程中，我們關(guān)注的是等離子體與材料的相互作用以及形成反應(yīng)產(chǎn)物。

       每個等離子體處理的工藝過程都會局限在一個多維參數(shù)的腔室中，這個腔室的大小決定了整個工藝的經(jīng)濟性、反應(yīng)質(zhì)量、反應(yīng)性能及其他參數(shù)，這些參數(shù)可以使處理過程具有競爭性和工業(yè)應(yīng)用價值。腔室的操作受許多約束條件的限制，如處理過程受等離子體的種類及反應(yīng)速率的限制，處理效率受電能轉(zhuǎn)化為等離子體密度方式的限制，反應(yīng)產(chǎn)量受處理過程中某種原材料的消耗所制約等。
在等離子體輔助制造工業(yè)中。等離子體一般具有下列用途：
1.等離子體可以作為熱源。
2.等離子體可以作為化學(xué)催化劑
3.等離子體可以作為高能離子流和電子流源。
4.可以作為濺射粒子源。
       在很多工藝中，隨處可見等離子體的這幾種基本特性，這就逐漸形成了以等離子體為處理手段的基礎(chǔ)制造業(yè)。單獨的某種處理過程或幾種處理過程綜合作用可賦予等離子體不同的用途。例如，在等離子體中，利用等離子體的化學(xué)合成作用產(chǎn)生新的化學(xué)藥品，或利用粒子的聚合作用在表面沉積形成薄膜等。