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CRF plasma 等離子清洗機(jī)

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等離子清洗機(jī)設(shè)備放電電壓對(duì)等離子體CH4臨H2轉(zhuǎn)化反應(yīng)的影響

等離子清洗機(jī)設(shè)備放電電壓對(duì)等離子體CH4臨H2轉(zhuǎn)化反應(yīng)的影響:
       隨著放電電壓的增大甲烷的轉(zhuǎn)化率和C2烴收率呈上升趨勢(shì),C2烴選擇性先增大后減小,在等離子清洗機(jī)設(shè)備放電電壓為16kV時(shí)C2烴選擇性大。據(jù)文獻(xiàn)報(bào)道,等離子清洗機(jī)設(shè)備等離子體條件下,CH活性物種的發(fā)射強(qiáng)度變化直接受工作氣壓和放電參數(shù)的影響。

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       由CH活性物種的強(qiáng)弱可探知甲烷在等離子體中裂解的程度,因?yàn)橥粭l譜線的強(qiáng)度和該成分的粒子密度成正比,所以通過譜線的相對(duì)強(qiáng)度隨各工藝參數(shù)的變化可推測(cè)該粒子數(shù)隨相應(yīng)工藝參數(shù)的變化。提高放電電壓,等離子清洗機(jī)設(shè)備CH活性物種的發(fā)射強(qiáng)度隨放電電壓的增加而增強(qiáng)。
       分析其原因是在氣體流速不變的條件下,輸入電壓低時(shí)電子受電場(chǎng)加速獲得的能量低,同時(shí)低能態(tài)下總的碰撞橫截面積也較低,CH4與高能電子的碰撞概率小,從而導(dǎo)致生成的活性物種少。隨著放電電壓的升高,電離率和電子密度增加,同時(shí)高能電子與CH4碰撞橫截面也隨之增大,意味著碰撞概率加大,生成的CH活性物種增多。同時(shí)也注意到,在實(shí)驗(yàn)過程中,隨著電壓的增加,反應(yīng)器壁上的積碳有所增加。

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